ERARA 真空泵介绍

品牌：EBARA 荏原制作所（日本，1912 年创立），半导体干式真空泵头部厂商，国内上海荏原精密生产，对标爱德华 Edwards、爱发科 ULVAC。核心定位：无油干式真空泵为主，腔体wan全无油，杜绝油返流污染，大量用于半导体、光伏、锂电、科研仪器。

一、核心特点

1. 无油洁净：转子非接触，泵腔不使用润滑油，无油蒸汽污染，满足 SEMI‑S2 半导体标准。

2. 耐水汽、耐腐蚀：可选 Ni‑Resist 耐蚀铸铁，可处理 HCl、氯气、氨气、硅烷等工艺气体，抗水汽能力强，自带气镇阀排出可凝性气体。

3. 低振动低噪音：精密动平衡，噪音 56‑62dB，适合洁净室、质谱、电镜等精密设备环境。

4. 节能：支持怠速休眠模式，待机功耗低，相比传统泵省电 30% 以上。

5. 维护周期长：正常工况 1‑2 年无需大修，备件通用性好。

二、主流产品系列

1. EV‑PA / EV‑SA 风冷多级罗茨干泵（中小型，风冷，不需要冷却水）

• EV‑PA：超小型，EV‑PA250 / 500；抽速 230‑500L/min，极限 0.5Pa；单相电，重量 16‑21kg，实验室、质谱、小型镀膜、load‑lock 腔；体积小巧，可移动。

• EV‑SA：中型风冷；抽速 1670‑5000L/min；适合中小型半导体、镀膜、真空脱泡、锂电工艺，风冷安装简单，无需水冷管路。

2. EV‑M 系列 爪式干式真空泵（中大流量）

多级爪式转子，耐粉尘、耐水汽；抽速 1800‑80000L/min；用于半导体 load‑lock、一般工业真空、真空烘烤。

3. DS / DVS / ESA 螺杆式干式真空泵（半导体主力，水冷）

双螺杆结构，大抽速、耐高温、强耐化学腐蚀。

• 用于刻蚀、CVD/PVD 沉积、SiC 化合物半导体、光伏、化工；适合高负荷 24 小时连续产线；水冷散热。

4. VS 涡旋干泵（微型）

小型涡旋，低抽速，用于分析仪器、检漏、小型实验室设备。

另外荏原也有水环泵、油旋片泵等传统湿式泵，但市场主流是干式无油泵。

三、典型应用行业

1. 半导体：晶圆 load‑lock、刻蚀、PVD/CVD、清洗、离子注入、量测设备（中芯、台积电大量使用）

2. 新能源：锂电注液、真空烘烤、光伏镀膜、氢能设备

3. 科研仪器：质谱、扫描电镜、真空烧结、真空脱泡

4. 工业：真空镀膜、包装、树脂脱泡、化工废气抽吸