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技术文章/ Technical Articles

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  • 山本鍍金电镀分析仪运行过程典型问题及规范化解决对策

    山本鍍金电镀分析仪是电镀行业中用于精确检测镀液成分、控制产品质量的关键精密仪器。由于电镀液成分复杂且对工艺要求高,在日常高频使用中,山本鍍金电镀分析仪在使用过程中常见问题主要集中在测量数据漂移、显色异常以及光学部件污染等方面。掌握这些问题的成因及相应解决方法,对保障电镀工艺的稳定性至关重要。1、测量数据漂移或读数不稳定现象:仪器显示的三价铬或铁含量数值持续跳动,无法稳定。解决方法:这通常是由于光电传感器受环境光干扰、比色皿(玻璃电池)外壁有水渍,或磁力搅拌器转速过快产生气泡所...

    2026-08-21查看详情
  • 京都玉崎的电机在半导体设备制造中的应用案例有哪些

    京都玉崎(东方马达)半导体设备落地应用案例全部为设备整机厂商实际量产项目,分为真空腔体工艺设备案例、前道洁净设备案例、后道封测检测案例,标注配套型号、设备痛点、改善效果,可直接用于方案、宣传资料。🔹真空腔体类设备案例(AR真空电机核心,10⁻⁵Pa高真空)案例1:PVD薄膜沉积镀膜机(国产真空工艺设备厂商)设备工位:真空腔内部晶圆托盘旋转、样品台倾斜升降、工艺挡板角度调节配套供货:东方马达ARM46MK(AR真空带刹车电机)+ARD真空驱动器原有痛点:普通电机不能入腔;采用...

    2026-08-20查看详情
  • 京都玉崎的电机在半导体设备制造中有哪些具体应用

    京都玉崎供应电机在半导体设备制造的具体应用主要以东方马达αSTEP‑AR真空系列、AZ闭环步进、PKP/RKⅡ步进、DRS2电动缸、DGⅡ中空旋转平台为主,覆盖半导体前道工艺设备、晶圆处理、真空腔体、封装测试、量测检测各大设备,区分真空腔体内工况与洁净大气环境工况两大板块。一、前道真空工艺设备(AR真空电机核心场景,10⁻⁵Pa高真空腔体内部)特点:低放气材质、真空专用润滑,腔内直接安装,免电池绝对值编码器,上电无需回零,不用加装真空原点传感器,减少腔体穿线密封难度。刻蚀设备...

    2026-08-20查看详情
  • 京都玉崎的电机有哪些优势

    京都玉崎电机供应核心优势京都玉崎作为日本商社,主营东方马达、NPM日脉、MTL、SUGIYAMA杉山、KYOWA协和等日系精密电机,主打中小功率精密驱动、特种工况电机,优势集中在渠道、特种型号、技术服务、交付、行业配套五大块。一、原厂直采渠道,正品保障日本大阪总部源头采购,中日一体供应链,原装正品,单证齐全,可提供报关资料,杜绝翻新、仿品风险。多品牌优势供货:闭环步进、真空电机、微型直驱、电动缸、中空旋转平台、防水调速电机、电动滚筒一站式配齐,不用多头找供应商。支持单台样机、...

    2026-08-20查看详情
  • 京都玉崎的电机有哪些应用场景

    京都玉崎供应东方马达、MTL、SINFONIA神钢、KYOWA协和等日系精密电机,以中小功率、高精度、特种环境机型为主,覆盖半导体、电子制造、医疗、光学仪器、食品医药、通用自动化六大板块。一、半导体&真空设备(玉崎优势场景,东方马达AR真空系列重点)晶圆设备:晶圆搬运、真空腔体内位移平台、探针台、键合机、镀膜、刻蚀腔体内部驱动,超高真空环境、低放气、免电池绝对值编码器,腔内无需原点传感器面板/PCB设备:AOI光学检测、点胶机、固晶机、贴装工位、载台X/Y运动机构洁净室设备:...

    2026-08-20查看详情
  • 东方马达(ORIENTAL MOTOR)|京都玉崎优势供应

    日本原厂原装,步进伺服、无刷电机、驱动器、电动缸、真空耐环境特种机型全系列供货,半导体、自动化设备配套选型、现货、交期保障。一、主营核心系列αSTEP闭环步进伺服(AZ/AR系列)AZ标准闭环步进,ABZO免电池绝对值编码器,开机无需回零;AR真空专用系列适配10⁻⁵Pa超高真空腔体,半导体晶圆设备主力机型。步进电机PKP/RKⅡ系列2相、5相步进马达,法兰28‑86mm,搭配CVD系列EtherCAT多轴驱动器,脉冲/总线控制,多轴同步方案成熟。无刷电机BLE2/BXⅡ/B...

    2026-08-20查看详情
  • 紫外分光光度计测定陶瓷色料浓度

    陶瓷生产调釉配色,常见的问题就是批次色差。传统生产全靠老师傅肉眼对色、凭经验添加色料,主观性ji强,受光线、人员操作影响大,经常出现单批釉面发色正常、批量生产偏深偏浅的情况,烧成后次品率居高不下。如今实验室普遍采用紫外分光光度计检测陶瓷色料浓度,用精准数值替代人工预判,有效稳住了釉料配色的批次稳定性。很多新手操作容易出错,误以为陶瓷色料兑水稀释就能直接上机测试。其实陶瓷色料多为高温合成的无机氧化物、包裹色料,化学性质稳定,仅用水调配只会形成浑浊悬浮液,固体颗粒会干扰光线穿透,...

    2026-08-12查看详情
  • 半导体光刻工艺旋涂仪选型要点

    半导体光刻旋涂对膜厚均匀性、颗粒控制、工艺重复性要求非常严格。很多人选型只看转速参数,上机后经常遇到片内膜厚不均、边缘胶异常、颗粒超标、工艺无法复刻等问题。光刻用旋涂仪和普通实验涂布机wan全不一样,选型重点不在转速高低,而在稳定性、洁净度、控速逻辑和防污染能力。首先是转速稳定性,这是光刻成膜的基础。光刻胶成膜关键区间基本集中在3000–6000rpm,不需要盲目追求超高转速。市面上很多低端设备空载转速好看,带上晶圆就抖动、转速飘移,直接导致整片膜厚偏差超标。光刻机必须用闭环...

    2026-08-12查看详情
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